中国5纳米光刻机突破（5纳米光刻机突破了吗）-小美百科

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1什么是中国光刻机?

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。

我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的***重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。

回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。

华为砍台积电5nm芯片部分订单始末目前，市场上能量产5nm芯片的代工厂，仅有台积电。台积电的这个优势，可以维持到明年。

我们的主角中微半导体所在的领域就是半导体设备细分行业，这个行业主要有两种半导体设备，一是光刻机，一个是刻蚀机。

中微半导体成立的第11年，中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机，自此，中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

数字越小，则代表着技术越先进。说通俗一点，给你一个相同大小的芯片，让你往里面放晶体管，里面能够承载的5nm的晶体管肯定是要多于7nm的晶体管的。

第一：目前只有台积电才有能力生产5nm芯片的工艺，并且已经能量产。但是他还是使用了美国技术，根据美国新政——要求采用美国技术和设备生产出的芯片，必须先经过美国批准才能出售给华为。

由于芯片涉及美国核心军事科技，出于***安全层面考量，美国***希望台积电将军用芯片产线转移至美国，并称美国在这方面不打算退让。这就是台积电赴美建厂的主要原因，而且还是最先进的5nm工艺，这还只是其中冰山一角。

1、同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现商用不知道还要多久。中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子，目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程。

2、至少光刻机技术最多也就到1nm，这就像是龟兔赛跑，虽然对手已经跑出很远了，但终点就在那里，只要肯投入研发力量，总有一天可以抵达的。

3、毫无疑问，180nm还处于比较落后的状态，这也是***芯片迟迟无法崛起的主要原因。

4、首先要设计芯片，设计出来之后交给代工厂生产，设计芯片软件方面中国在世界上的占比为0%，国内目前芯片生产商最好的应该是中芯国际，最好的制程是 14纳米，而台积电跟三星今年7纳米就要要量产了。中间差了二代。

5、几乎一年两年就一代，所以我们就赶得非常紧。”实际上，正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商，推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。

6、nm高端刻蚀机刻蚀机在精密定位和环境控制等技术方面的要求较低，其技术要求和门槛也比光刻机更低。不过它们皆为芯片制造环节中的重要设备，它们的发展无疑是我国半导体产业***化水平的重要指标之一。

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